ATH 1600 M 是普發(fā)真空（Pfeiffer Vacuum）生產的一款渦輪分子泵
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摘要
普發(fā)真空 ATH 1600 M 渦輪分子泵，抽速強勁、極限真空度高，運行穩(wěn)定且噪音低，適用于半導體、科研等對真空環(huán)境要求嚴苛的領域，為高真空系統提供可靠保障，助力高效生產與實驗。
產品介紹
ATH 1600 M 是普發(fā)真空（Pfeiffer Vacuum）生產的一款渦輪分子泵。
工作原理
渦輪分子泵是一種高速旋轉的真空泵，通過高速轉動的轉子葉片與氣體分子碰撞，將氣體分子驅向泵的出口方向， 從而達到抽氣的目的，以獲得高真空或超高真空環(huán)境。
性能特點
高抽速：能夠快速有效地抽除氣體，滿足對真空度和抽氣速度要求較高的應用場景，比如在半導體制造過程中，需要快速建立并維持穩(wěn)定的真空環(huán)境， 它可以高效完成這一任務。
極限真空度高：可以達到較高的極限真空水平， 能夠滿足像電子顯微鏡、真空鍍膜、高能物理實驗等對真空度要求極為苛刻的工作條件。
運行穩(wěn)定：采用先進的設計和制造工藝，具備良好的穩(wěn)定性和可靠性，降低因泵故障導致的設備停機風險。
低振動和低噪音：在運行過程中產生的振動和噪音較小，有利于保障工作環(huán)境的舒適性，同時也減少對周邊精密設備的干擾。
應用領域
半導體行業(yè)：用于半導體芯片制造過程中的光刻、蝕刻、薄膜沉積等工藝環(huán)節(jié)， 提供穩(wěn)定的真空環(huán)境，確保工藝的精確性和產品質量。
科學研究：在物理、化學、材料科學等科研領域， 如分子束外延、真空電子器件研究等實驗中，為實驗提供高真空條件。
真空鍍膜：在光學鍍膜、裝飾鍍膜等真空鍍膜行業(yè)，幫助建立和維持鍍膜所需的真空環(huán)境，提高鍍膜質量和均勻性 。
分析儀器：為質譜儀、電子能譜儀等分析儀器提供真空環(huán)境，保證儀器的正常運行和檢測精度。
渦輪分子泵（如普發(fā)真空的渦輪分子泵等相關型號）對不同氣體（氮氣N2、氦氣
He、氫氣H2、氬氣Ar）的抽速 - 入口壓力特性曲線。
曲線解讀
橫坐標（p）：表示泵的入口壓力，單位是百帕（hPa）。
縱坐標（S）：表示泵對相應氣體的抽速，單位是升每秒（l/s）。
不同氣體曲線：不同顏色曲線分別對應不同氣體， 能直觀展現出在不同入口壓力下，渦輪分子泵對各氣體抽速的變化規(guī)律。例如，從曲線可看出，在一定壓力范圍內，渦輪分子泵對氮氣的抽速相對較高，而對氫氣等氣體抽速有不同的變化趨勢。
作用
這類曲線主要用于幫助用戶了解渦輪分子泵在不同工作壓力和不同氣體種類下的抽氣性能， 以便在實際應用（如真空系統設計、選擇合適的真空泵匹配氣體類型和工作壓力等場景）中，根據具體需求選擇和優(yōu)化泵的使用，確保真空系統能高效運行。
真空設備（如真空泵等）的流量 - 入口壓力特性曲線，展示流量隨入口壓力的變
化規(guī)律。
真空設備部件尺寸圖，顯示了帶有 DN 40 ISO KF 規(guī)格出口的部件外形尺寸
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